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UV/H2O2/O3光催化高/級氧化工藝
來源:http://aaronmcbridestudio.com2021-11-08 09:18:12

應用工業領域

     該項目應用于處理印染廢水、煤化工廢水、石化廢水、制藥廢水、電鍍廢水、酒精廢水等。

五、工藝/裝備原理

     UV/H2O2/O3光催化高/級氧化工藝,氧化劑 O3在相應 UV 波段催化及 H2O2協同作用下高/效產生強氧化性羥基自由基(·OH)。該自由基具有ji強的氧化性,通過自由基反應能夠有效地分解有機污染物,甚至徹/底地轉化為無害無機物,如 CO2和 H2O。

六、工藝/裝備特點

  (1)運行效率高、噸水費用低;

  (2)占地面積小、投資費用低;

  (3)催化劑穩定、無污泥產生;

  (4)自動化程度高、抗沖擊能力強;

  (5)工藝運行靈活、操作環境好。

污水處理廠采用 UV/H2O2/O3高/級氧化工藝進行工業園區廢水深度處理,根據該工藝驗收報告,高/級氧化段進出水 COD 分別為 68 mg/L 和 30 mg/L,COD 去除率達 56%;噸水運行成本約 0.74 元。該工藝可以滿足工業園區污水廠一級 A COD 指標的排放要求;強化系統設計,出水 COD 指標可滿足地表Ⅳ、Ⅲ排放要求。


 

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